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収録内容
| 1 | 総論 Cat‐CVD法の誕生、期待とその課題(Cat‐CVD法の誕生 |
| 2 | Cat‐CVD膜の特徴 ほか) |
| 3 | 第1章 基礎編(低温成膜の物理とCat‐CVD―フィラメント表面での化学反応の評価 |
| 4 | 気相中のラジカル種の定量 ほか) |
| 5 | 第2章 Cat‐CVD装置(大型Cat‐CVD装置 |
| 6 | 簡易型Cat‐CVD装置 ほか) |
| 7 | 第3章 応用編(SiN―LSIトランジスターへの応用 |
| 8 | レジストエッチング―水素ラジカルによるレジスト除去 ほか) |
| 9 | 第4章 材料各論(アモルファスおよび微結晶Si |
| 10 | エピタキシャルSiC ほか) |
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